某半导体设备进行处理芯片研发厂在晶圆鑫霖环保过程中中，动用硅烷参与硅外延性成长，废气洗衣机清洗塔引起高密度含硅废渣。废渣具备着pH起伏大（2-11）、硅含氧量高的的特点，传统艺术进行处理方式方法易出来硅垢堵塞了故障 。 电镀废水化学物质及因素 废渣主耍因素为： 降解性硅酸盐 ：SiO₂渗透压达1000-1500mg/L 盐酸/氢空气氧化钠 ：洗洁塔酸碱平衡洗洁液无残留 粒状硅 ：nm级SiO₂固体 痕量砷 ：成分残渣进入 清理的工艺具体步骤 不断创新使用"多级与+膜滤过+蒸发器晶粒"的工艺： 4级中合 ：用CaO控制pH至4-5，转化成硅酸钙沉淀自己，硅彻底清除率60%。 下级采和 ：加Na₂CO₃将pH的提升至9，进1步悠长岁月中结余硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透膜装置 ：0.02μm工业陶瓷膜活性炭过滤纳米级级硅颗料，通量稳定性在80LMH。 MVR蒸馏器 ：精提高盐废气，沉淀出Na₂SO₄副车辆，水循环率超90%。 最终能够视觉效果 总硅从1500mg/L降低5mg/L以上 砷含氧量从0.8mg/L减至0.01mg/L 机系统无积灰正常运行低于2年 几乎每年回收处理浓盐酸钠晶状体约800吨